A kép forrása: Blikk
A holland ASML vállalat bemutatta a következő generációs nagy-NA (numerikus apertúrájú) litográfiai gépét. A kétlépcsős extrém ultraibolya (EUV) litográfiai rendszer az első az ilyen berendezések új generációjában, amely 8 nm-es felbontást tesz elérhetővé a fejlett logikai és memóriachipek gyártásához.
Az ASML gyártja az egyetlen olyan litográfiai berendezést a világon, amely képes chipek előállítására. A TWINSCAN EXE:5000 az első magas-NA-s gép, amely lehetővé teszi a sűrűség növelését és a rövidebb gyártási időt. Termékük megvásárlását néhány ország, például Kína megtiltja. A High-NA gép óránként 185 ostyát képes kinyomtatni, és tervezik, hogy 2025-re a teljesítményt 220 ostya/óra fölé emelik. A gyártási folyamat hatalmas, szakképzett mérnököket igényel, és az optika miatt a gyáraknak berendezéseik elrendezését is meg kell változtatniuk. Az Intel már megrendelt egy ilyen berendezést, míg a TSMC és a Samsung még bizonytalanok a nagy-NA-s gyártás bevezetésével kapcsolatban.
